







Descriere SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask
Producătorul a ambalat acest produs fără celofan.
| Tipul de ten | pentru toate tipurile de piele, ten uscat |
| Efect | Hidratare, calmare, regenerare, nutriție, împotriva roșeții |
| Când se utilizează | ziua și noaptea |
| Forma produsului | textil |
| Zonă de utilizare | față |
| Certificări și ingrediente | potrivit pentru vegani |
Hidratați și calmați tenul în câteva minute
Masca textilă SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask este soluția ideală pentru tenul uscat, sensibil și mixt, care are nevoie de hidratare și calmare imediată. Conține 8 tipuri de acid hialuronic, care oferă o hidratare intensă și favorizează regenerarea tenului.
Masca este ideală pentru îngrijirea tenului iritat sau înroșit. Datorită extractului de gotu kola și ceramidei NP, fortifică bariera cutanată și o protejează împotriva pierderii de umiditate, în timp ce hidrolatul de trandafir de Damasc tonifică și susține echilibrul natural al tenului.
Caracteristici:
- hidratează intens și calmează tenul
- hrănește și contribuie la regenerarea tenului iritat sau tensionat
- fortifică bariera tenului și protejează împotriva pierderii de umiditate
Ingrediente:
- 8 tipuri de acid hialuronic – îmbunătățesc nivelul de hidratare al tenului, netezesc
- niacinamidă – favorizează reducerea ridurilor fine, îmbunătățește tonusul și fermitatea tenului, uniformizează tenul
- extract de gotu kola – calmează iritațiile, regenerează
- hidrolat de trandafir de Damasc – calmează și tonifică tenul
- ceramidă NP – consolidează bariera hidrolipidică a tenului
Mod de utilizare:
Aplicați masca Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask pe tenul perfect curățat și tonifiat, astfel încât să adere perfect. Lăsați-o să acționeze 10–20 minute și apoi îndepărtați-o cu grijă. Masați delicat esența rămasă.
Compoziție SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask
Alte informații
Recenzii SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask1




