Descriere KVD Beauty Good Apple

Producătorul a ambalat acest produs fără celofan.

Consistență	balm
Tipul de ten	ten gras, ten uscat
După tipul de acoperire	Ușoară
Protecție împotriva soarelui	fără SPF
Efect	hidratant, rezistent, corector
Nuanță fond de ten	medium
Certificări și ingrediente	potrivit pentru vegani

Machiaj compact persistent cu acoperire ușoară și textură de balm

KVD Beauty Good Apple este un machiaj compact care oferă o acoperire ușoară și un efect natural. Textura sa de balm asigură o aplicare uniformă și confortabilă, lăsând pielea hidratată și cu un aspect neted. Este ideal pentru cei care caută un produs practic, cu o formulă rezistentă și ușor de utilizat.

Caracteristici:

acoperire ușoară pentru un aspect natural
textură de balm – aplicare confortabilă
efect hidratant – menține pielea catifelată
rezistență îndelungată – ideal pentru utilizare de-a lungul zilei

Mod de utilizare:
Se aplică pe pielea curată și pregătită, folosind un burete sau o pensulă pentru machiaj, uniformizând produsul pentru un efect natural.

Sfat Notino:
Completează rutina ta de machiaj cu un spray fixator pentru a asigura o rezistență și mai mare pe parcursul zilei.

Acest text a fost creat cu ajutorul unui sistem AI.

Compoziție KVD Beauty Good Apple

Compoziție completă

TRIETHYLHEXANOIN, OCTYLDODECANOL, SILICA, DIMETHICONE, DIBUTYL LAUROYL GLUTAMIDE, OCTYLDODECYL NEOPENTANOATE, DISTEARDIMONIUM HECTORITE, ISOSTEARYL ALCOHOL, OLEYL ALCOHOL, POLYMETHYL METHACRYLATE, PYRUS MALUS (APPLE) FRUIT EXTRACT, DISODIUM STEAROYL GLUTAMATE, MICA, HYDROLYZED SODIUM HYALURONATE, POLYSILICONE-11, AQUA/WATER/EAU, BUTYLENE GLYCOL, CAPRYLYL GLYCOL, PHENOXYETHANOL, ALUMINUM HYDROXIDE, CARTHAMUS TINCTORIUS (SAFFLOWER) SEED OIL, HEXYLENE GLYCOL, TOCOPHERYL ACETATE, TOCOPHEROL, ASCORBIC ACID, DECYL GLUCOSIDE, GLYCERIN, SODIUM PCA, SODIUM LACTATE, ARGININE, ASPARTIC ACID, PCA, SACCHAROMYCES/MAGNESIUM FERMENT, GLYCINE, ALANINE, SERINE, VALINE, SACCHAROMYCES/COPPER FERMENT, POTASSIUM SORBATE, SACCHAROMYCES/SILICON FERMENT, ISOLEUCINE, PROLINE, THREONINE, SACCHAROMYCES/ZINC FERMENT, HYALURONIC ACID, SACCHAROMYCES/IRON FERMENT, SILANETRIOL, CITRIC ACID, SORBIC ACID, HISTIDINE, PHENYLALANINE. MAY CONTAIN +/-: TITANIUM DIOXIDE (CI 77891), IRON OXIDES (CI 77491, CI 77492, CI 77499).

Pentru compoziția produsului este responsabil producătorul. Datorită posibilelor modificări, vă recomandăm să verificați compoziția produsului direct pe ambalajul acestuia.